產(chǎn)品名稱：二手 日立CD-SEM 掃描電鏡S-9380
產(chǎn)品型號：
更新時間：2025-11-20
產(chǎn)品特點(diǎn)：二手 日立CD-SEM 掃描電鏡S-9380（臨界尺寸掃描電子顯微鏡）設(shè)備在半導(dǎo)體制造和納米材料研究領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用
產(chǎn)品詳細(xì)資料：
二手 日立CD-SEM 掃描電鏡S-9380 作為日立CD-SEM系列的另一款重要產(chǎn)品，S-9380在性能上進(jìn)行了全面升級，提供了更高的放大倍數(shù)和更廣的測量范圍。它同樣具備強(qiáng)大的圖像處理和自動測量功能，能夠應(yīng)對更加復(fù)雜和精細(xì)的測量任務(wù)。S-9380在*半導(dǎo)體制造、納米材料表征以及生物醫(yī)學(xué)研究等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。
一、技術(shù)架構(gòu)：高分辨率微觀觀測的 “三維核心作業(yè)體系"
HITACHI S-9380 以破解 “高分辨率與大視場平衡、復(fù)雜結(jié)構(gòu)三維成像、多材料電荷抑制" 三大難題為核心使命，構(gòu)建 “電子發(fā)射 - 成像控制 - 分析適配" 的三維架構(gòu)，實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體微觀觀測能力的全面升級：
（一）冷場發(fā)射電子槍系統(tǒng)：高亮度電子源的 “核心引擎"
采用高穩(wěn)定性冷場發(fā)射電子槍與電子光學(xué)系統(tǒng)，奠定納米級觀測基礎(chǔ)：搭載日立的冷場發(fā)射電子槍，通過曲率半徑＜10nm 的鎢單晶針尖，實(shí)現(xiàn)電子束亮度達(dá) 1×10?A/cm2?sr，電子束直徑可聚焦至 0.5nm 以下，在 1kV 低加速電壓下仍能保持 0.8nm 超高分辨率，較傳統(tǒng)熱場發(fā)射電鏡分辨率提升 88%，有效避免高加速電壓對半導(dǎo)體器件（如超薄柵極氧化層）的損傷。創(chuàng)新設(shè)計雙聚光鏡與物鏡組合光學(xué)系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)電子束放大倍率 10-1,000,000 倍連續(xù)可調(diào)，在觀測 10nm 以下納米缺陷時，仍能保持圖像信噪比＞50dB，缺陷識別準(zhǔn)確率提升 90%。
電子束穩(wěn)定性優(yōu)化：配備恒溫控制系統(tǒng)（控溫精度 ±0.1℃）與防震基座（振動控制精度＜0.1μm），電子束電流穩(wěn)定性達(dá) ±0.5%/h，確保長時間（＞8 小時）連續(xù)觀測過程中，圖像分辨率無明顯衰減，滿足半導(dǎo)體失效分析的長時間數(shù)據(jù)采集需求。
（二）多模式成像與分析系統(tǒng)：復(fù)雜結(jié)構(gòu)觀測的 “關(guān)鍵支撐"
采用二次電子 / 背散射電子雙模成像與三維重構(gòu)技術(shù)，突破復(fù)雜結(jié)構(gòu)觀測瓶頸：集成高靈敏度二次電子探測器（SED）與背散射電子探測器（BSED），SED 用于獲取樣品表面形貌信息，分辨率達(dá) 0.8nm；BSED 用于分析樣品元素成分分布，原子序數(shù)襯度分辨率達(dá) 1nm，可清晰區(qū)分半導(dǎo)體器件中的金屬電極（如 Cu、Al）與介質(zhì)層（如 SiO?、HfO?）。創(chuàng)新開發(fā) “層切式三維成像技術(shù)"，通過控制電子束聚焦深度，對 3D NAND 多層堆疊結(jié)構(gòu)、Chiplet 互連界面等復(fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行逐層掃描，結(jié)合圖像拼接與重構(gòu)算法，生成三維立體模型，成像精度達(dá) ±2nm，較傳統(tǒng)三維成像技術(shù)誤差降低 80%。
多材料分析適配：針對 SiC、GaN 等化合物半導(dǎo)體的高絕緣特性，配備智能電荷補(bǔ)償系統(tǒng)，通過低能電子槍（能量 0-50eV）向樣品表面發(fā)射低能電子，中和電荷積累，電荷抑制效率達(dá) 99% 以上，圖像失真率＜1%，解決傳統(tǒng)電鏡分析絕緣材料時的圖像漂移問題。
二手 日立CD-SEM 掃描電鏡S-9380 （三）智能化觀測與適配系統(tǒng)：高效分析的 “實(shí)用底座"
采用自動樣品臺與智能分析軟件，適配半導(dǎo)體多樣化觀測需求：搭載 XYZ 三軸全自動樣品臺，移動范圍 80mm×80mm×50mm，定位精度 ±0.1μm，支持樣品自動加載與多觀測點(diǎn)連續(xù)掃描，可一次性完成 6 英寸晶圓上 100 個以上觀測點(diǎn)的自動成像，觀測效率較手動操作提升 5 倍。配備日立專用 SEM 分析軟件，內(nèi)置半導(dǎo)體器件缺陷識別模板（如光刻膠針孔、金屬布線劃痕、SiC 位錯），支持缺陷自動計數(shù)、尺寸測量與分類，缺陷識別準(zhǔn)確率達(dá) 95% 以上，分析報告生成時間從傳統(tǒng)的 2 小時縮短至 10 分鐘。
數(shù)據(jù)集成與追溯：支持 SECS/GEM 協(xié)議與半導(dǎo)體工廠 MES 系統(tǒng)對接，可將觀測數(shù)據(jù)（如缺陷位置、尺寸、圖像）實(shí)時上傳至工廠數(shù)據(jù)庫，實(shí)現(xiàn) “樣品 - 觀測 - 分析" 全流程數(shù)據(jù)追溯；配備遠(yuǎn)程控制模塊，工程師可通過網(wǎng)絡(luò)實(shí)現(xiàn)設(shè)備遠(yuǎn)程操作與數(shù)據(jù)分析，故障響應(yīng)時間縮短至 2 小時以內(nèi)。
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