產(chǎn)品名稱：二手蔡司場發(fā)射電鏡SUPRA 40VP
產(chǎn)品型號：
更新時間：2024-04-29
產(chǎn)品特點：二手蔡司場發(fā)射電鏡SUPRA 40VP是一款高分辨率場發(fā)射掃描電子顯微鏡，擁有第三代GEMINI 鏡筒，可變壓強性能加上多種納米工具的使用，不用花費大量時間，使高分辨率成像和非導(dǎo)體樣本的分析成為可能，超大的樣品室適合各種類型探頭及配件的選擇。該場發(fā)射電鏡適用于材料領(lǐng)域、失效分析、過程控制，納米技術(shù)等。
產(chǎn)品詳細(xì)資料：
二手蔡司場發(fā)射電鏡SUPRA 40VP蔡司新一代蔡司場發(fā)射掃描電子顯微鏡，具有高質(zhì)量的成像和分析能力，將*進的場發(fā)射掃描電子顯微鏡技術(shù)與優(yōu)秀的用戶體驗結(jié)合。利用Sigma系列直觀的4步工作流程，在更短的時間內(nèi)獲得更多的數(shù)據(jù)，提高測試與生產(chǎn)效率?？蛇x配多種探測器，以滿足半導(dǎo)體、能源等新材料、磁性樣品、生物樣品、地質(zhì)樣品等不同的應(yīng)用需求。結(jié)合蔡司原位電鏡實驗平臺，可以實現(xiàn)自動智能化的原位實驗工作流程，高效率獲取高通量、高質(zhì)量的原位實驗數(shù)據(jù)。EDS幾何設(shè)計保證了出色的元素分析性能，分析速度高、精度好、結(jié)果可靠。高分辨、全分析、多擴展、強智能、廣應(yīng)用，全新Sigma系列是助力于材料研究、生命科學(xué)和工業(yè)檢測等領(lǐng)域的“多面手"。
[ 產(chǎn)品特點 ]
ü Gemini鏡筒設(shè)計，低電壓高分辨，無漏磁
ü 廣泛全面的應(yīng)用場景
ü 豐富靈活的探測手段
ü 智能高效的工作流程
ü *進可靠的分析系統(tǒng)
ü 強大完善的擴展平臺
[ 應(yīng)用領(lǐng)域 ]
ü 材料科學(xué)，如納米材料高分辨成像，高分子聚合物等不導(dǎo)電樣品成像，電池材料成分襯度成像，二維材料分析
ü 生命科學(xué)，如生物樣品超微結(jié)構(gòu)成像，冷凍樣品高分辨成像
ü 地質(zhì)礦物學(xué)，如地質(zhì)樣品高分辨成像、成分分析以及原位拉曼聯(lián)用分析
ü 工業(yè)應(yīng)用，如組件失效分析，工藝診斷
ü 電子半導(dǎo)體行業(yè)，如質(zhì)量控制與分析，6英寸Wafer快速換樣，電子束曝光技術(shù)（EBL）
ü 鋼鐵行業(yè)，如夾雜物分析，金屬材料自動原位成像分析
ü 刑偵、法醫(yī)學(xué)
ü 考古學(xué)、文物保護與修復(fù)
NanoVP lite模式下斷裂的聚苯乙烯表面成像
氧化鋁顆粒高分辨二次電子成像
ETSE探測器氧化鋅枝晶成像 InLens SE探測器氧化鋯&氧化鐵復(fù)合材料成像
用于高品質(zhì)成像與高級分析的場發(fā)射掃描電子顯微鏡
靈活的探測，4步工作流程，高級的分析性能
將高級的分析性能與場發(fā)射掃描技術(shù)相結(jié)合，利用成熟的 Gemini 電子光學(xué)元件。多種探測器可選：用于顆粒、表面或者納米結(jié)構(gòu)成像。Sigma 半自動的4步工作流程節(jié)省大量的時間：設(shè)置成像與分析步驟，提高效率。
Sigma 300 性價比高。Sigma 500 裝配有背散射幾何探測器，可快速方便地實現(xiàn)基礎(chǔ)分析。任何時間，任何樣品均可獲得精準(zhǔn)可重復(fù)的分析結(jié)果。
二手蔡司場發(fā)射電鏡SUPRA 40VP用于清晰成像的靈活探測
利用*進探測術(shù)為您的需求定制 Sigma，表征所有樣品。
利用 in-lens 雙探測器獲取形貌和成份信息。
利用新一代的二次探測器，獲取高達50%的信號圖像。在可變壓力模式下利用 Sigma 創(chuàng)新的 C2D 和 可變壓力探測器，在低真空環(huán)境下獲取高達85%對比度的銳利的圖像。
自動化加速工作流程
4步工作流程讓您控制 Sigma 的所有功能。在多用戶環(huán)境中，從快速成像和節(jié)省培訓(xùn)首先，先對樣品進行導(dǎo)航，然后設(shè)置成像條件。
首先，先對樣品進行導(dǎo)航，然后設(shè)置成像條件。
接下來對樣品感興趣的區(qū)域進行優(yōu)化并自動采集圖像。最后使用工作流程的最后一步，將結(jié)果可視化。
高級分析型顯微鏡
將掃描電子顯微鏡與基本分析相結(jié)合：Sigma 背散射幾何探測器大大提升了分析性能，特別是對電子束敏感的樣品。
在一半的檢測束流和兩倍的速度條件下獲取分析數(shù)據(jù)。
獲益于8.5 mm 短的分析工作距離和35°夾角，獲取完整且無陰影的分析結(jié)果。
基于成熟的 Gemini 技術(shù)
Gemini 鏡頭的設(shè)計結(jié)合考慮了電場與磁場對光學(xué)性能的影響，并將場對樣品的影響降至更低。這使得即使對磁性樣品成像也能獲得出色的效果。
Gemini in-lens 的探測確保了信號探測的效率，通過二次檢測(SE)和背散射(BSE)元件同時減少成像時間。
Gemini 電子束加
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